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金華脈衝電源設備廠在傳感器方麵:在傳感器中,多采用那些(xiē)電氣性質(zhì)相對於物(wù)理量、化學(xué)量及其變化(huà)來說,極為敏感的半導體材料。此外,其中,大(dà)多數利用的是半(bàn)導體的表麵、界麵的性質,需要盡量增大其麵積,且能工業(yè)化、低價格製(zhì)作,因此,采用薄膜的情況很多。專業脈衝電源設備廠在集成電路製造中:晶體管路中的(de)保護層(SiO2、Si3N4)、電極管線(xiàn)(多晶矽、鋁、銅及其合金)等,多是采用CVD技術、PVCD技術、真空蒸發金屬技術、磁控濺射技術和射頻濺射(shè)技術。可見,氣相沉積是製備集成電路的核心技術之一。

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