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鏡片在接受鍍膜前必須進（jìn）行預清洗（xǐ），這種清洗要求很高，達到分子級（jí）。在清洗槽（cáo）中（zhōng）分（fèn）別放置各（gè）種清洗液，並采用超聲波（bō）加強清（qīng）洗效果，當鏡片（piàn）清洗完後，放進真空艙內，在此過程（chéng）中要（yào）特別注意避免空氣中的（de）灰塵和垃圾再黏附在鏡片表麵。最後的清洗是在真（zhēn）空艙內，在此過程中要（yào）特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附（fù）在鏡（jìng）片表麵。最後的清洗是在（zài）真空艙內鍍前進行（háng）的（de），放置在真空艙內的離子槍將轟擊鏡片的表麵（例如（rú）用氬離子（zǐ）），完成此道清（qīng）洗工序後（hòu）即（jí）進行減反射膜的鍍膜。
真空鍍膜電源為什麽在現在會應用那（nà）麽多呢（ne），有哪些明顯的效果？
概念的區別：
1、真（zhēn）空鍍膜是指在高真空的條件下（xià）加熱金屬或非金屬材（cái）料，使其蒸發並凝結於鍍件（金屬、半導體或絕緣（yuán）體）表（biǎo）麵（miàn）而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。
2、光學鍍膜是指在光學零件表麵上鍍上（shàng）一（yī）層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝過程。在光學零（líng）件（jiàn）表（biǎo）麵鍍膜的目的是為了達（dá）到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用（yòng）的（de）鍍膜法有真空鍍膜(物理（lǐ）鍍膜的一種)和化學鍍膜。
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