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真空(kōng)鍍膜電源
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你(nǐ)知道真空鍍膜有什麽特點

2020-08-31 00:00:00

真空鍍膜是(shì)真空應用領域的一個突破性(xìng)技術,利用物理或者化學方法並吸收(shōu)一係列新技術(shù)而成(chéng)的工藝,目的就是為(wéi)了(le)在實際生產中為產品創造薄膜(mó)保護層。工藝主要分為真空蒸鍍、磁控濺射鍍膜、離子鍍(dù)三種。真空鍍膜電源廠家介紹真空鍍膜有什麽特點:

真空鍍膜電源

(1)成膜溫度低。鋼鐵行業中的熱(rè)鍍鋅鍍膜溫(wēn)度一般是400℃~500℃,化學鍍膜溫度更高達1000℃以上。這樣高的溫度很容易引起(qǐ)被鍍件的變形、變質,而(ér)真空鍍膜的溫度低,可以降到常溫,避免了常(cháng)規(guī)鍍膜工藝的弊(bì)端(duān)。


(2)蒸發源(yuán)選擇自由度大(dà)。可選擇的鍍(dù)膜材料多而不受材(cái)料熔(róng)點限製(zhì),可鍍種類眾多的金屬氮化膜,金屬氧化膜和金屬炭化物及各種複合膜。


(3)不使用(yòng)有害氣體、液體,對環境無不利(lì)影響。在當前越來越重視環保的大(dà)趨勢下,這點極其可貴。


(4)帶鋼鍍膜質量好。能獲得均勻、平滑且極薄的(de)鍍膜,鍍膜純度高,耐蝕性(xìng)和附著力好。不存在熱鍍鋅中的漏鍍點、鋅(xīn)浪、鋅花等問題。


(5)工藝靈活(huó),改變品種方(fāng)便。可鍍(dù)單麵、雙麵和單層、多層及混合層。鍍膜厚度易於控製。


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