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1、概念（niàn）差異
1. 真空鍍膜是指在高真（zhēn）空條件下加熱金屬或非金屬材料，使其在被鍍件（jiàn）(金屬、半導體或絕緣體)表麵蒸發凝結形成薄膜（mó）的一種方法。如真空鍍鋁、真空鍍鉻等。
2. 光學鍍膜是（shì）指在光學元件（jiàn）表麵塗覆一層（céng）(或多層（céng）)金屬(或介電)薄膜的工藝。在光學元件（jiàn）表麵塗膜（mó）的目的是為了減少或增加光的反射、分束、分色（sè）、過濾、偏振（zhèn）等要求。常用的包覆（fù）方法有真空包（bāo）覆(物理包覆（fù）的一種)和化學包覆。
2、原則差異
1. 真空鍍膜是真空應用的一個重要方麵（miàn），它以真空技術為（wéi）基礎，利用物理或化學方法，吸收（shōu）了電子束、分（fèn）子束、離子束、等離子體束、射頻、磁控管（guǎn）等一係列（liè）新技（jì）術，為科學研究和實際生產提供了薄（báo）膜製備的新工藝。簡單地說，就是在真空中蒸發或濺射金屬、合金或化合（hé）物以使其凝固並沉積在塗層物體(稱為（wéi）基（jī）材、襯底或襯底)上的方（fāng）法。
2. 光的幹（gàn）涉在薄膜光學中有（yǒu）著廣泛的應用。光學（xué）薄膜技術常用的方法是通過真空濺（jiàn）射在玻璃基板上塗覆（fù）薄膜，一般用來控製基板對入射光束的（de）反射率和透（tòu）射率，以滿足不同的需要。為了消除光（guāng）學元件表麵的（de）反射損失，提高（gāo）成像質量，在表麵塗上一層或多層透明的介電（diàn）膜，稱（chēng）為抗反射膜或抗反（fǎn）射膜。
隨著激光（guāng）技術的發展，對膜層的反射率和透射率（lǜ）有了不同的要求，促（cù）進了多層高反射膜和寬帶增（zēng）透膜的發展。為滿足各（gè）種應（yīng）用的需要，采用高反射膜製（zhì）造偏光反射膜、彩色光譜膜、冷光膜、幹涉濾光片等。光學元（yuán）件表麵塗覆後（hòu），光在膜層上（shàng）多次反射透射，形成多束幹涉。通過控（kòng）製膜（mó）層的折射率和厚度，可以（yǐ）得到不同的光強分布，這是幹涉鍍（dù）膜的基本原理。
3、方法和材料的差異
1. 真空鍍膜法（fǎ）
(1)真空蒸發鍍:將待（dài）鍍基材清洗幹淨，放入鍍（dù）膜室。抽真空後（hòu），將（jiāng）薄（báo）膜材料加熱到高溫，使蒸氣達到約13.3Pa，使蒸氣分子飛到基片表麵，凝結成薄膜（mó）。
(2)陰 極濺射（shè）鍍:將待鍍基材置於陰 極的對麵，在真空室中引入惰性氣體(如氬氣)，保持壓力約1.33-13.3Pa，然後將陰 極接在2000V直流（liú）電源上刺激輝光放電。正氬（yà）離（lí）子撞擊陰 極，使（shǐ）其釋放出原（yuán）子。濺落的原子通過惰性氣氛沉積在襯底上，形成薄膜。
(3)化學氣相（xiàng）沉積:通（tōng）過對選定的金屬（shǔ）或有機化合物進行熱分解得到沉積薄膜（mó）的過程。
(4)離子鍍:離子鍍本質上是真空蒸發鍍和陰 極濺射鍍（dù）的有機結合，具有兩者（zhě）的工藝特點。各種塗覆方式的優缺點如表6-9所示。
2. 光學（xué）鍍膜方法用材料
(1)氟化鎂:純度高的（de）無色四方結晶粉末，用於光學鍍膜，提高透光（guāng）率（lǜ），防止坍塌點。
(2)二氧化矽:無色透明晶體，熔點高，硬度高，化學穩（wěn）定（dìng）性好。純度高，用（yòng）於製（zhì）備高品（pǐn）質SiO2塗層，蒸發狀態好（hǎo），無坍塌點。根據使用要求分為（wéi）紫（zǐ）外線、紅外線和可見光。
(3)氧化鋯:白（bái）色重晶態，具有高折射率和耐高溫性（xìng）能，化學性（xìng）質（zhì）穩定，純度高。用於製備無坍塌點的高質量氧化鋯塗層。
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