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真空鍍膜設備的鍍（dù）膜工藝有很多。簡單來說，就是利用蒸發、濺射等方法，在真空環（huán）境下發（fā）射薄膜（mó）顆粒，將其沉積在金屬、玻璃、陶瓷、半導體、塑（sù）料（liào）件等物體上，形成客戶（hù）需要的各種塗層（céng）。在日常生活中（zhōng）較為常見的技術有真空蒸發、濺射鍍膜、離子鍍膜等
真空蒸發鍍膜:原理是用蒸發器在真空條件下加熱薄膜材料，使其汽化或升華。蒸發的粒子（zǐ）流直接指向基材，在基（jī）材上沉積固體薄（báo）膜。蒸發又可分為電子（zǐ）束蒸發、電阻蒸（zhēng）發、感應蒸發等
濺射鍍膜（mó）:在真空條件下，對陰極施加高壓電激（jī）發輝光（guāng）放電，帶正電的氬離子與陰極靶材碰撞，使其（qí）射出薄膜顆粒，沉積在基材上，形成薄膜層。
離子塗層:離（lí）子塗層通（tōng）常是指在塗層過程中產生大量（liàng）離子的塗（tú）層方法。在膜（mó）的形成過（guò）程中，基底不（bú）斷（duàn）受到高能粒子的轟擊，膜層的強度和附著力非常強。當離子鍍用（yòng）於生產高精度膜層時，可以過濾（lǜ）掉大顆粒（lì）離子，從（cóng）而獲得高結構、高（gāo）密度的膜層。
日常生活（huó）中較常用的鍍膜技術就是（shì）這三（sān）種真空（kōng）鍍膜設備。具（jù）體選擇取決（jué）於要塗覆的膜層類型、要塗覆的工件類型等。
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