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主要型號：
型號 | 功率(kW) | 工（gōng）作峰值（zhí）電壓（V） | 最大工作電流（A） | 最大峰值（zhí）電（A） | 主機（jī）外（wài）形尺寸 | 冷卻方式（shì） |
HVP-2500V | 2.5 | 2.5kV | 2.5A | 50 | 482*175*550 (WHD)[4U] | 風冷 |
HVP-3500V | 2.5 | 3.5kV | 1.5A | 30 |
主要特（tè）點：
A具有行動穩定（dìng）電壓功能，具有理想的電壓陡降特性，
有效抑製工件表麵打火，明顯提高鍍件的成品率、表麵光潔度（dù）和膜層結合力。
B 電壓脈衝輸出峰值可達3500V。
C 頻率1k~2kHz，占空比1%~5%(最 大脈衝寬度25uS)。
D 可選擇手動控製/模擬量接口（kǒu）控製，可選配RS485通訊接口。
采用（yòng）先（xiān）進的PWM脈寬調（diào）製技術，使用進（jìn）口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積小、重量輕、功能全（quán）、性能穩定可靠，生產工藝嚴格完善。
該係列產品采用先（xiān）進的DSP控（kòng）製（zhì）係統，充分保證鍍膜工藝的重複性，
並且具有抑製靶材弧光放電及抗（kàng）短（duǎn）路功能，
具有（yǒu）極佳的負載匹配能力，既保證了靶麵清洗工藝的穩定性，又提高了靶（bǎ）麵清洗速度；
主要參數均可大範圍（wéi）連續調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴（kuò）展功能，方便實現自動化控製。
主要用途：
高壓窄脈衝電源適用於特殊鍍膜工藝時被（bèi）鍍工件表麵的輝光清洗、鍍膜前的離子轟（hōng）擊（jī）和鍍膜時的離子（zǐ）加速等。
社會不斷發展，技術也是不斷得在創新。真空鍍膜（mó）電源的運用範圍是越來越廣泛了，真空鍍膜技術是一種新穎（yǐng）的材料（liào）合成與加工的新（xīn）技（jì）術，是表麵（miàn）工程技術領域的重要組成部分。隨著全球製造業（yè）高速發展，真空鍍膜技術應用越來越廣泛（fàn）。從半導體集成電（diàn）路、LED、顯示（shì）器（qì）、觸摸屏、太陽能光伏、化工（gōng）、製藥等行業的（de）發展來看，對真空鍍（dù）膜設備、技術材料需求都在不斷增加（jiā），包括製造大規模集成電路（lù）的電學膜；數字式縱向與橫向均可磁化（huà）的數據記錄儲存膜；充分展示（shì）和（hé）應用各種（zhǒng）光學特性的光學膜；計算機顯示用的感光（guāng）膜；TFT、PDP平麵（miàn）顯（xiǎn）示器上的導電（diàn）膜和增透膜；建築、汽車行業上應用的玻璃鍍膜（mó）和裝飾膜（mó）；包裝領域用（yòng）防護膜、阻隔（gé）膜；裝飾材（cái）料上具體（tǐ）各種功能裝飾效（xiào）果的功能膜；工、模具表（biǎo）麵上（shàng）應用的耐磨超硬膜；納米材料研究方麵的各種功能性薄膜等。對於國內真（zhēn）空（kōng）鍍膜設備製（zhì）造企業發展建議（yì）如下（xià）：
1、目前實體經濟走勢（shì）整體疲弱，複蘇充滿（mǎn）不確定性，經濟處於繼續探底過（guò）程，真空鍍膜設備製造企業應著力進行產業結構優化升（shēng）級，重質量、重服務明確市場定位，大力研（yán）發擁（yōng）有自主知識產權的新產品新工藝，提高產品質量和服務水（shuǐ）平。
2、依托信息化發展趨勢，堅持“以信息化帶動工業化，以工（gōng）業化促進信息化”，走出一條科技含量高、經濟效益好（hǎo）、資源消（xiāo）耗低、環境汙（wū）染少、人力資源優勢得到充分發揮的新（xīn）型工業化路子。
3、依托政府支持，大力加強與（yǔ）擁有行業先進技術和工藝水平（píng）的科研院所、大（dà）型（xíng）企業、高校合（hé）作，使得新品能迅速推向市場。
真空鍍膜技術及設備擁有十分廣闊的（de）應用領域和發展前景。未來真空鍍膜設備行業等製造業將以信息化融合為重心（xīn），依靠技術進步（bù），更加注重技（jì）術（shù）能力積累，製造偏向服務型，向（xiàng）世界真空鍍膜設備行業等製造業價值鏈高（gāo）端挺（tǐng）進。
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地（dì）址（zhǐ）：中（zhōng）山市石岐區海景工（gōng）業區3、4、5號(4號樓3-4樓)
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