北京MSDP單極脈衝磁控（kòng）濺射（shè）電（diàn）源

所屬分類：北（běi）京MSDP單極脈（mò）衝磁控濺射電源
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發布日期：2020-10-21 09:43:33

我（wǒ）要詢（xún）價（jià）

產品概述
性能特點
技術參數

主（zhǔ）要型號：

型（xíng）號	功率 (kW)	最大工作電流(A)	外形尺寸	冷（lěng）卻方式	空載電壓 (V)	工作電壓 (V)
MSDP-10k	10	12.5	1單元	風（fēng）冷	1000	200~800V
MSDP-20k	20	25	1單元
MSDP-30k	30	37.5	2單元
MSDP-40k	40	50	2單元

主要特點：
A 明顯改善靶麵電荷積累（lèi）現象（xiàng），減小濺射表麵的打火次數，提高膜層質量。
B 具有平均電源穩定功能，具有理想的電壓陡降特性，
充分滿足磁控濺射工（gōng）藝（yì）過（guò）程的連續性。
C 空載電壓≥1000V，工作電壓200~800V。
D 頻率40kHz，占空比20%~80%。
E 可選擇手動控製/模擬量接（jiē）口控製，可選配RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率（lǜ）開關器件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可（kě）靠，生產工藝嚴格完善。
該係列產品采用先（xiān）進（jìn）的DSP控（kòng）製係統，充分保（bǎo）證鍍膜工藝的（de）重複性，
並且具（jù）有抑製靶材弧光放電（diàn）及抗短路功能，
具有極佳的負載匹配能力，既保證（zhèng）了靶麵清（qīng）洗工（gōng）藝的穩（wěn）定性，又（yòu）提高了（le）靶麵清洗速（sù）度（dù）；
主要（yào）參數均（jun1）可大範圍連續（xù）調（diào）節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動化控製。

主要用途：

單（dān）極（jí）脈衝磁控濺射適用於金屬、合金及石墨等靶材（cái）鍍製金屬膜（mó）、碳膜和（hé）部分氧化物、氮化物及碳化物膜。

鏡片在（zài）接受鍍膜前必須進行預清洗，這種清洗要求很高，達到分子級。在清洗槽中分別放置各種清洗液，並采用超聲波加強清洗效果，當鏡片清洗完後（hòu），放（fàng）進真空艙內，在此過程中要特別注意避免（miǎn）空氣中的灰塵和垃圾（jī）再黏附在鏡片表麵。最後的清洗是在真空艙內，在此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表麵（miàn）。最後的清洗是在（zài）真空艙內鍍前進行的，放（fàng）置在真空艙（cāng）內的離（lí）子（zǐ）槍將轟擊鏡片的表麵（例如用氬離子），完成此道清洗工序後即進行減反射膜的鍍膜。

真空鍍膜電源為什麽在現在（zài）會應用那麽多呢，有哪些明顯的效果？

真空鍍膜電源

概念的（de）區別：

1、真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬（shǔ）材料，使其（qí）蒸發並凝結於鍍件（金（jīn）屬、半導體或絕緣體）表麵而形成薄膜的一種（zhǒng）方法。例如（rú），真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

2、光學鍍膜是指在（zài）光學零件表（biǎo）麵（miàn）上鍍上（shàng）一層(或多層)金屬(或介質)薄膜（mó）的工藝過程。在光學零件表麵鍍（dù）膜的目的是（shì）為了達到減（jiǎn）少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一（yī）種)和化學鍍膜。