北京MSB中頻磁控濺射真（zhēn）空（kōng）鍍膜電源

所屬分類：北京MSB係列中頻電源
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發（fā）布日期：2020-10-21 09:42:08

我要詢（xún）價

產品概述
性能特點
技（jì）術參數

主要型號：

型號	功率(kW)	最大工作電流(A)	外形尺（chǐ）寸	冷卻方式	空載電壓(V)	工作電壓(V)
MSB-10k	10	12.5	1單元	風冷	1000	150~800V
MSB-20k	20	25	1單元
MSB-30k	30	37.5	2單元
MSB-40k	40	50	2單（dān）元
MSB-20k	20	25	1單元	風水冷	1000	150~800V
MSB-30k	30	37.5	1單元
MSB-40k	40	50	1單（dān）元
MSB-60k	60	75	2單元
MSB-80k	80	100	2單元
MSB-100k	100	125	3單元
MSB-120k	120	150	3單元（yuán）

主要特點：

A 采用先（xiān）進的電流型開關電源技術，減小輸出儲能元件（jiàn），
同時提高了（le）抑製打火及重啟速度，應用在鋁靶鍍膜優勢更為明（míng）顯。
B 具備恒流/恒功率模式可選。恒功率模式相（xiàng）對於傳統的恒流模式，
更能保證鍍（dù）膜工藝的重複性。
C 具有理想的電壓陡降特性，自動識別偽（wěi）打火現象，
充分滿足磁控濺射（shè）工藝過程（chéng）的連續性。
D 主要參（cān）數可（kě）大範圍調節
E 可選擇手動控製/模擬量接口控製，可選配RS485通訊（xùn）接口。
采用先進的PWM脈寬調製（zhì）技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積小、重量輕（qīng）、功能全、性能（néng）穩定可（kě）靠，生（shēng）產工藝嚴格完善（shàn）。
該係列產品采用先進的DSP控製係統，充分保證鍍（dù）膜（mó）工藝的重複性，
並且具有抑製靶材弧光放電及抗短路功能，
具有（yǒu）極佳的負載匹配能力，既保證了靶（bǎ）麵清洗工（gōng）藝的穩定性，又提高了靶麵清洗速度；
主要參數（shù）均可大範圍連續調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便（biàn）實現自動化控製。

MSB係列雙極脈衝磁控濺射電源（中頻電源）

主（zhǔ）要用途：

雙極脈衝磁控濺（jiàn）射電源用於中（zhōng）頻孿生靶磁控濺金（jīn）屬或非金（jīn）屬（shǔ）材料，特別適合於反應磁控濺射。能增加離化率（lǜ），減少電荷積累引起的異（yì）常放電，預防靶表（biǎo）麵中毒現象。

離子源電源

真空鍍膜電源設備

真（zhēn）空鍍膜電源設備

真空鍍膜電源設（shè）備

真空鍍膜電源（yuán）設（shè）備

在真空鍍膜電源時（shí），使用直流負偏壓電源，其中運用直流電源，這個電源的（de）電子方向（xiàng）一直統一，會導致單一品（pǐn）種電荷堆積過高（gāo）與控製源中和。也就是說用來提供（gòng）動力的正負極（jí）被中和了。然後磁控濺射將不再持續。所以選用脈衝電源。

在真空中製備膜層，包（bāo）含鍍製晶態的（de）金屬、半（bàn）導體、絕緣（yuán）體等單質或化合物膜。雖然化學汽相堆積（jī）也選用減（jiǎn）壓、低壓或等離子體等真空手法，但一般真空鍍膜是指用物理的辦法堆（duī）積薄膜。真（zhēn）空鍍膜有三種方式，即蒸（zhēng）發鍍膜（mó）、濺射鍍膜和離子鍍。

真空鍍膜技能初現於20世（shì）紀30年代，四五十年代開端呈現工（gōng）業使用，工業化大規模出產（chǎn）開端於20世紀80年代，在電（diàn）子、宇航、包裝、裝潢、燙金（jīn）印刷等工業中獲得廣泛的使用。真空鍍膜是指在真空環境下，將某種金屬或金屬化合（hé）物以氣相的方式堆積（jī）到資（zī）料外表（通常是非金屬資料），歸於（yú）物理氣相堆積工藝。由於鍍（dù）層常為金（jīn）屬薄（báo）膜，故也稱真空金屬化。廣義的真（zhēn）空（kōng）鍍（dù）膜還包含在金屬或非金屬資料外表真空蒸鍍聚合物等（děng）非金屬功用性薄膜。在所有（yǒu）被鍍資猜中，以塑料樶為常見，其次，為紙（zhǐ）張鍍膜。相對於金屬、陶瓷、木材等資料，塑料具有（yǒu）來曆（lì）充足、性能易於調控、加工（gōng）方便等（děng）優勢（shì），因此品種繁多的塑料或其他高分（fèn）子資料作為工程裝（zhuāng）修性結構資料，大量使用於轎車、家電、日用包裝、工藝裝修等（děng）工（gōng）業（yè）領域。但（dàn）塑料資料大多存在外表硬度不高、外觀不行華麗、耐磨性低等缺點，如在塑料外表蒸鍍一層極薄的金屬薄膜，即可賦予（yǔ）塑料（liào）程亮（liàng）的金（jīn）屬外觀，合適（shì）的金屬源還可大大增（zēng）加資料外表耐磨性能，大大拓寬了塑料的裝修性和使用範圍。

真空鍍膜的功用是多方麵的，這也決議了其使用場合非常豐富。整體來說，真空鍍膜的主要功用包含賦予被鍍（dù）件外表高度金屬光澤和鏡麵效果，在薄膜資料上使膜層具（jù）有超卓的隔絕性能，提供優異的電磁屏蔽和導電效果。