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主要型號：
型號 | 功率(kW) | 工作峰值電壓（V） | 最大工作電流（A） | 最大峰值電（A） | 主機外形尺寸 | 冷卻方式 |
HVP-2500V | 2.5 | 2.5kV | 2.5A | 50 | 482*175*550 (WHD)[4U] | 風冷 |
HVP-3500V | 2.5 | 3.5kV | 1.5A | 30 |
主（zhǔ）要特點：
A具有（yǒu）行動穩定電（diàn）壓功能，具有理想的電壓陡降特性（xìng），
有效抑製工件表麵打火（huǒ），明顯提高鍍件的成品（pǐn）率、表麵光潔度和膜層結（jié）合力（lì）。
B 電壓脈衝輸出峰（fēng）值可達3500V。
C 頻（pín）率1k~2kHz，占空比1%~5%(最 大脈衝寬度25uS)。
D 可選擇手動控製/模擬量接口控製，可選配（pèi）RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈寬（kuān）調製技術，使（shǐ）用（yòng）進口IGBT或MOSFET作為（wéi）功率開關器件，
體積（jī）小、重（chóng）量輕、功能全、性能穩定可靠，生（shēng）產工藝嚴格（gé）完善。
該係列產品采用先進的DSP控製（zhì）係統，充分保證鍍膜工藝的重複性，
並（bìng）且具有抑製（zhì）靶材弧光放電及抗（kàng）短路功能（néng），
具（jù）有極佳（jiā）的負載匹配能力，既保證了靶麵（miàn）清洗（xǐ）工藝的穩定性，又提高了靶麵清洗速度（dù）；
主要參數均可大範圍連（lián）續調節；
方便（biàn）維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動化控（kòng）製。
主要用途：
高壓窄脈衝電源適用於特殊鍍膜工藝（yì）時被鍍工件表麵的輝光清洗、鍍（dù）膜前（qián）的離子轟擊和鍍膜（mó）時的離子加速等。
社會不斷發展，技術也是不（bú）斷得在創（chuàng）新。真空鍍膜電源的運用（yòng）範圍是越來越廣泛了，真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加工的新技術，是表麵工程技（jì）術領（lǐng）域的重要組成（chéng）部分。隨（suí）著全球製（zhì）造業高速發展，真空鍍膜技術應用越來（lái）越廣泛。從半導體集成電路、LED、顯示器、觸摸屏、太陽能光伏、化工、製藥等行業的發（fā）展（zhǎn）來看，對真空鍍膜設備、技術材料需求都在不斷增加（jiā），包括製造（zào）大規模集（jí）成電路的電學膜；數字式縱向與橫（héng）向均可磁化的數據記（jì）錄儲（chǔ）存膜；充（chōng）分展示和應用各種光學特性的光學膜（mó）；計算機顯示用的感光膜（mó）；TFT、PDP平麵顯示器上的導電膜和增透膜；建築、汽車行業上應用的玻璃鍍膜和裝飾膜；包裝領域用防（fáng）護膜、阻隔膜；裝飾材料上具體（tǐ）各種功能（néng）裝飾效果的功能膜；工、模具（jù）表麵上應用（yòng）的耐磨超硬（yìng）膜；納米材料研究方（fāng）麵的各種功（gōng）能性薄膜（mó）等。對於國內真（zhēn）空鍍（dù）膜（mó）設備製造企業發（fā）展建議如下：
1、目前實體經（jīng）濟走勢整體疲弱，複蘇（sū）充（chōng）滿不確定性，經濟處於（yú）繼續探底過程（chéng），真空鍍膜設備製造企業應著力進行產業結（jié）構優化升級，重質量、重服務明確市（shì）場定位，大力研發擁有自主知識產權的新產品新工藝，提高產品質量和服務水平。
2、依托信（xìn）息化發展（zhǎn）趨勢，堅持“以（yǐ）信（xìn）息（xī）化帶動工業化，以工（gōng）業化促進信息（xī）化”，走出（chū）一條科技（jì）含量高、經濟效益好、資源消耗低、環境汙染少、人力資源優勢（shì）得到充分發揮的新型工業化路（lù）子。
3、依托政府支持，大力加強與擁有行業先進技術和工藝水平的科（kē）研院所、大型企業、高校合作，使得（dé）新品能迅速推向市場。
真空鍍膜技術及設備擁有十分廣（guǎng）闊的應用領域和發展前景。未來（lái）真空鍍膜設備行業等製造業將以信息化融合為重心（xīn），依靠技術進（jìn）步，更加注重技術能力（lì）積累，製造偏向服務型，向世界真空鍍膜設備行（háng）業等製造業價值鏈高端挺進。
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