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專業製造真空鍍(dù)膜電源(yuán)

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真空鍍膜電源廠(chǎng)家
武漢MSD係列直流磁控濺(jiàn)射電源

武漢MSD係列直流磁控(kòng)濺射電源

  • 所屬分(fèn)類(lèi):武漢(hàn)MSD係列直(zhí)流磁控濺射電源
  • 瀏覽次數:
  • 發布日期:2020-05-21 14:13:28
  • 產品(pǐn)概述
  • 性能特(tè)點(diǎn)
  • 技術參數

主要型號:

型(xíng)號

功率(kW)

蕞大工作

電流(liú)(A)

外形尺寸

冷卻方式

空載電壓(V)

工作電壓(V)

MSD-10k

10

12.5

1單元


風冷

480*243*565

(WHD)(3U)



1000



150~800V

MSD-20k

20

25

1單元

MSD-30k

30

37.5

2單元(yuán)

MSD-40k

40

50

2單元

MSD-20k

20

25

1單元



風水冷

480*280*580

(WHD)(3U)




1000




150~800V

MSD-30k

30

37.5

1單元

MSD-40k

40

50

1單(dān)元

MSD-60k

60

75

2單元

MSD-80k

80

100

2單元

MSD-100k

100

125

3單元

MSD-120k

120

150

3單元


主要特點:
   A 采用(yòng)先進(jìn)的電流型開關電源技術,減小輸(shū)出儲能元件,
同時提高(gāo)了抑製打火及重啟速度,應用(yòng)在鋁靶鍍膜(mó)優勢(shì)更為明顯。
   B 具備恒流/恒功率模式可選。恒功率(lǜ)模式相對於傳統的恒(héng)流(liú)模(mó)式,
更能保證鍍膜工藝的(de)重複性。
  C 具(jù)有理想(xiǎng)的電壓陡(dǒu)降特性(xìng),自動識別偽打火現象,
充分滿足磁控濺(jiàn)射工藝過程的連續性。
  D 主要參數可大範圍調節
  E 可選擇手動控製/模擬量接口控製,可選配RS485通訊接口。
  F 采用進口大功率IGBT&MOS模塊(kuài)
采用先進的PWM脈寬調製(zhì)技術,使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器(qì)件,
體積小、重量輕、功能全、性能(néng)穩定(dìng)可靠,生產工藝(yì)嚴格完(wán)善。
該係列產品采用先進的DSP控製係統,充分保證鍍膜(mó)工藝的重複性,
並且具有抑製靶材弧光放電及抗(kàng)短路功能,
具有極佳的(de)負載匹配能力,既保證了靶麵清洗工藝的(de)穩定(dìng)性,又提高了靶麵清洗速度;
主要參(cān)數均可大範圍連續調節;
方便維護,可靠性高;
PLC接口和RS485接口擴展功(gōng)能,方便實現自動化控製。


主要(yào)用途:

直流磁控濺射用於鍍製各種金屬



在電子科技快速發展的時代中,電源的應用可(kě)以說是隨處可見的,或許正是因為電源的普遍(biàn)應用,所以電(diàn)源的(de)類型(xíng)也隨之(zhī)而多樣。真空鍍膜電源是眾多電源類(lèi)型中的一種,這種電源與普通的電源有一定的區別,單(dān)是電源的外觀就有明顯的不同。

真空鍍膜電源,

     真空(kōng)鍍膜機光學鍍膜加工上有什麽要(yào)注意的嗎?當光線進入不(bú)同傳遞物質時(如(rú)由空氣進(jìn)入玻璃),大約有(yǒu)5%會被反(fǎn)射掉,在光學(xué)瞄準鏡中有許多透鏡和(hé)折射(shè)鏡,整個加起來(lái)可以讓入射光線損失達30%至40%。現代光學透鏡通常(cháng)都鍍有單層或多(duō)層氟化鎂的增透膜,單層(céng)增透(tòu)膜可使反射減少至1.5%,多層增透膜則可讓反射降低至0.25%,所以整個(gè)瞄準鏡如果加(jiā)以適(shì)當鍍膜,光線透穿率可達95%。鍍(dù)了單層增透膜(mó)的鏡片通常是藍紫色或是紅色(sè),鍍(dù)多層增透膜的鏡片則呈淡綠色或暗紫色。


真空鍍膜機增透膜增加透射光強度的實(shí)質是作為電磁波的光波在傳播的過程中,在不同介質的分界麵上(shàng),由於邊界條(tiáo)件的不同,改變了其能量的分布。對於單層薄膜來說,當增透膜兩邊介質(zhì)不同時,薄膜(mó)厚度為1/4波長的奇數倍且薄膜(mó)的折射率n=(n1*n2)^(1/2)時(分(fèn)別是介質1、2的折射率(lǜ)),才可以使入射光(guāng)全部(bù)透過介質。一般光學透鏡都是在空氣中(zhōng)使用,對於一般折射率在1.5左右的光學玻璃(lí),為使單層膜達到100%的增透效果,可使n1=1.23,或接近1.23;還(hái)要(yào)使增透薄膜的厚度=(2k+1)倍四分之一個波長。單層膜隻對某一特定(dìng)波長的電磁波增透(tòu),為使在更大範圍內和更(gèng)多波長實現(xiàn)增透,人們利用鍍多層膜來(lái)實現。


人們對增透膜的利用有了很多的經驗,發現(xiàn)了不少可(kě)以作為增透膜的材料;同時也掌握了不(bú)少先進的鍍(dù)膜技術(shù),因此增透膜的應用涉及醫學、軍事、太空探(tàn)索等各行各業,為人類科技進步作出(chū)了(le)重大貢(gòng)獻。


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