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離子源電源主要利用離子氣體轟（hōng）擊基材，較好（hǎo）地清洗基材表麵的（de）油漬，增強塗層後的附著力。隨（suí）著（zhe）市場對產品（pǐn）質量的要求越（yuè）來越高，真空鍍膜廠家也想出了各種方法來（lái）提高產品質量（liàng），以滿足客戶的檢測要求。離子源電源旨在從生產源頭控製質量。
在真空鍍膜的生產過程中，鍍膜前要對基材進行清洗，否則看不見的汙（wū）垢會造成鍍膜後顏色不均勻。較為常用的方法是超聲波清洗。但它不同於離子源電源產生的離子氣轟擊清洗。在真空狀態下，離子氣體在電場（chǎng）的作用下高速運動，在（zài）襯底表麵產生（shēng）物理碰撞，離子氣體的能量足以（yǐ）去（qù）除各（gè）種汙染（rǎn）物。離子（zǐ）源（yuán）電源近兩年來逐漸被真（zhēn）空鍍膜廠家所接受。
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