脈（mò）衝磁控濺射電源簡介

2024-06-13 15:33:02

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說起單極脈衝磁（cí）控（kòng）濺射電源，可能有點困（kùn）惑，但我（wǒ）想說的是（shì），它是對直流磁控濺（jiàn）射電源的升級，是不是突然明白了？脈衝磁控濺射是用矩形波電壓（yā）脈衝電源代替傳（chuán）統直流（liú）電源的（de）一種方法。脈衝濺射可以有效（xiào）地抑製電弧的（de）產生，消除由此產生（shēng）的薄膜缺陷，同時可以提高濺（jiàn）射的沉積速率（lǜ），降低沉積溫度等一係列顯著優點（diǎn），是濺射（shè）絕緣材（cái）料沉積的精選工藝。一個周期有正電壓（yā）和負電壓兩（liǎng）個階段，在負（fù）電壓段中，電源作用於靶材的濺射，正電壓段（duàn）將電子積累（lèi）的正電荷引入靶材表麵，使表麵清（qīng）潔，露出金屬表麵。施加在靶材上的（de）脈衝電壓與一般磁控濺射的脈衝電壓相同！對於400~500V，電源頻率在10~350KHz，在保（bǎo）證穩定放電的（de）前提下，應盡可能低地取頻率#因為等離子體中的電子相對於離子具有更高（gāo）的遷移（yí）率，所以正（zhèng）電壓值隻（zhī）需要是負電壓的10%到20%，就可以有效地中和積聚在靶表麵的正電荷（hé）。占空比的選擇確（què）保了濺射過程中靶表麵積累的電荷在正電壓階段可以完全被中和，從而盡（jìn）可能地提高占空比，以實現電源的較大效率。

單極脈衝磁控濺射電源的優點是，它可以有效地抑製電弧的產生，消除由此產生的薄（báo）膜缺（quē）陷，同時（shí）可以提高濺射的沉積速率，降低沉積溫度等一係列顯著優點，是沉積濺射絕緣材料的較佳工藝

單極（jí）脈衝磁控濺（jiàn）射電源