上海MS係列勵磁多波形電源

所屬分類：上海MS係（xì）列勵磁多波形電源
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發布日期：2020-05-21 14:12:19

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產品概述
性能特點
技術參數

主要型（xíng）號：

型號	功率(W)	工作電（diàn）壓（V）	蕞大峰值電流（A）	外形尺寸	冷卻方式
MS-10A	400W	-40~+40	-10~+10	482175550 (WHD)[4U]	風（fēng）冷
MS-20A	800W	-40~+40	-20~+20
MS-30A	1200W	-40~+40	-30~+30

主要（yào）特點：
A 可選擇三角波、矩形波、正弦波（bō）三種波（bō）形，波形的蕞高值（zhí）和蕞低值可獨立設置。
B輸出電壓範（fàn）圍：-40V~+40V。
C波形頻率範圍：0.1-50Hz
D三（sān）角波、矩形波占空比10%~90%
E 可選擇（zé）手動控製/模擬量（liàng）接口控製（zhì），可選配RS485通訊（xùn）接口。
采用先進的（de）PWM脈寬調（diào）製技術，使用進口（kǒu）IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積小、重（chóng）量輕、功能全（quán）、性能（néng）穩定可靠，生產工藝嚴格完善。
該係列產品采用先進的DSP控製係統，充分保證鍍膜工藝的重複性，
並且具有抑（yì）製靶材弧光放電及抗短（duǎn）路功能，
具有極佳的負載匹配能力，既保證了靶麵清洗工藝的穩（wěn）定性，又提（tí）高了靶麵清洗速度；
主要參數均（jun1）可大範圍連續調節；
方便維（wéi）護，可靠性高；
PLC接（jiē）口和RS485接口擴（kuò）展功能，方便（biàn）實現（xiàn）自動化控製。

主要用途：

MS係列勵（lì）磁多波形電源選擇多種電壓波形輸出。通過驅動多弧靶（bǎ）外圍磁（cí）場線圈，產生周期性可變磁磁場（chǎng），使（shǐ）多弧輝光由原來的集中放電變為均勻放電，提高工件膜層質（zhì）量

現（xiàn）在工業區，在範圍上擴展的是越來越廣，跟隨我們行業的發展，現在機械設備研發的（de）是越來越多（duō），當然啦，研發那（nà）麽多，在一些加工廠家（jiā）肯定是要應用到的啦，在（zài）範圍上，在數量上都不會少（shǎo），現在我們來了解下真（zhēn）空鍍膜電源這項項目吧！

真空鍍膜電源

1、在光學儀器中：人們熟悉的光學儀器有望遠（yuǎn）鏡、顯微鏡、照相機、測距儀，以及日（rì）常（cháng）生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等（děng），它們都離不開鍍膜技（jì）術，鍍製的薄膜有反射膜、增透膜和吸（xī）收膜等幾種。

2、在信息存儲領域（yù）中：薄膜材料作為信息記錄於存儲介質，有其得天獨厚的優勢：由於薄膜很薄，可以忽略渦流損耗；磁化反轉極（jí）為迅速；與（yǔ）膜麵平行的雙穩態狀態容易保持等。為了更精密地記錄與存儲信息，必然要采用（yòng）鍍膜技術。

3、在傳感器方麵：在傳感器中，多采用那些電氣（qì）性質相對於物理量、化學量及其變化來說，極為敏感的半導體材（cái）料。此外（wài），其中，大多數利用的是半（bàn）導體的表麵、界麵（miàn）的性質，需要盡量增大其麵積，且能（néng）工業化、低價格製作，因此，采用薄膜的情況（kuàng）很多。

4、在（zài）集成電路製造中：晶體管路中的（de）保護層（SiO2、Si3N4）、電極管線（多晶矽、鋁、銅及其合金（jīn））等，多是采用CVD技術、PVCD技術、真空（kōng）蒸發金屬技術、磁（cí）控濺射（shè）技術和射頻濺射技術。可見，氣相沉積（jī）是（shì）製（zhì）備集成電路的核心技術之（zhī）一。