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主(zhǔ)要型號(hào):
型號 | 功率(lǜ)(W) | 工作電壓(V) | 最大(dà)峰值電流(A) | 外形尺寸 | 冷卻方式 |
MS-10A | 400W | -40~+40 | -10~+10 | 482*175*550 (WHD)[4U] | 風冷 |
MS-20A | 800W | -40~+40 | -20~+20 | ||
MS-30A | 1200W | -40~+40 | -30~+30 |
主要特點(diǎn):
A 可選擇三角波、矩(jǔ)形波、正弦波三種波(bō)形,波形的最高值和最低值可獨立設置。
B輸出電壓範圍:-40V~+40V。
C波形頻率範圍:0.1-50Hz
D三角(jiǎo)波、矩形(xíng)波占空比10%~90%
E 可選擇手(shǒu)動控製/模擬量接口控製,可選配RS485通訊接口(kǒu)。
采(cǎi)用先進的PWM脈寬調製技術,使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件,
體積(jī)小、重量輕、功能全、性能穩定可靠,生產工藝嚴格完善。
該係列(liè)產品采用(yòng)先進的DSP控製係統,充分保證鍍膜工藝的重複性,
並且具有抑製靶材弧光放電及抗短路功能(néng),
具(jù)有極佳的負(fù)載匹配能力,既保證了靶麵清洗工藝的穩定性,又提高了靶麵清洗速度;
主要參數均可大範圍連續調節;
方便維護,可靠性高;
PLC接口和RS485接口擴展(zhǎn)功(gōng)能,方便實現自動化控製。
主要用途:
MS係列勵磁多波形電源選擇多種電壓波(bō)形輸出。通過驅動多弧(hú)靶外圍磁場線圈,產生(shēng)周期性可變磁磁(cí)場,使多弧輝光由原來的集中放電變(biàn)為均勻放電,提高工件膜層質量

真(zhēn)空鍍(dù)膜電源廠家告(gào)訴你高頻開關電(diàn)鍍電源應用在金屬表麵處理及小功率範圍內的國內市場已經接受,具有廣闊(kuò)的市場前景。但產品主要局限(xiàn)於1500A以下的中小功率領域,在國內也隻有少量廠家生產,從技術角度(dù)看主要限於硬開關變換模式和模擬控製方式,可靠性、EMC及工藝(yì)結構等方麵具有明顯的局限性,同焊接等領域全(quán)麵推(tuī)廣應用開關式電源(yuán)的景(jǐng)況具有(yǒu)較大差距。
真空鍍膜是指在高真空的條件下(xià)加熱金屬或非金屬材料,使其蒸發並凝結於鍍件(金(jīn)屬、半導體或絕緣體)表麵而形成薄膜的一種方法。
真(zhēn)空鍍膜這一塊是真空應用領域的重要方麵,在真空中以真(zhēn)空技術為基礎,把物(wù)理方法和化學方法利(lì)用起來,通(tōng)過吸收分子束、離子束、電子束、等離子束、射頻和磁控等一(yī)係列高新(xīn)技術,在科學研(yán)究和實際生產中,為薄膜製備(bèi)提供一種新工藝,簡單的一點來說,要在真空中利用合金(jīn)、金屬或化合物進行蒸發和濺射,並讓被塗覆的物體(有基片、稱(chēng)基板、基體等等)進行凝固並沉積,這種方法稱(chēng)為真空鍍膜,那真空鍍膜電源就(jiù)可想而知,眾所周知,在一些材料的表麵(miàn)上鍍上(shàng)一層薄膜(mó),就可以使這種材料具有多種性(xìng)能,例如(rú)良好的物理和化學性能並且是嶄新的;
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