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主(zhǔ)要型號(hào):
型號(hào) | 功率(W) | 工(gōng)作電壓(V) | 最大峰值(zhí)電流(A) | 外形尺寸 | 冷卻方式 |
MS-10A | 400W | -40~+40 | -10~+10 | 482*175*550 (WHD)[4U] | 風冷 |
MS-20A | 800W | -40~+40 | -20~+20 | ||
MS-30A | 1200W | -40~+40 | -30~+30 |
主要特點:
A 可選擇三角波、矩形波、正弦波三種波形,波形的(de)最高值和最低值可(kě)獨立設置(zhì)。
B輸出電壓範圍:-40V~+40V。
C波形頻率範圍:0.1-50Hz
D三角波(bō)、矩形波占空比10%~90%
E 可選擇手(shǒu)動控製/模擬量接口控製,可(kě)選配RS485通(tōng)訊接口。
采用先進的PWM脈寬調製技術,使用進(jìn)口IGBT或(huò)MOSFET作為功率開關器件(jiàn),
體積小、重(chóng)量(liàng)輕、功能全、性(xìng)能穩定可靠,生產工藝嚴格完(wán)善。
該係列產品采用先進(jìn)的DSP控製係(xì)統,充(chōng)分保證鍍膜工藝的重複性,
並且具有抑製靶材(cái)弧(hú)光放電及抗短(duǎn)路功能,
具(jù)有極佳的負載匹配能力,既保(bǎo)證(zhèng)了靶麵清洗工藝的穩定性,又提(tí)高了靶麵清(qīng)洗速度;
主要參數均可大範圍連續調節;
方便維護,可靠性高;
PLC接口和RS485接口擴展功能,方便實現自動化控製。
主要用途:
MS係列勵磁多波形電源選擇多種電(diàn)壓波形(xíng)輸出。通過驅動多(duō)弧(hú)靶外圍磁場線圈,產生周期性可(kě)變磁磁場,使多弧輝光由原來的集中放電變為均勻(yún)放電,提高工件膜層質量(liàng)

真空鍍膜(mó)電源廠家告訴你高頻開關電鍍電源應用在金屬表麵處理及小功率範圍內的國內市場已經接受,具有廣闊(kuò)的市場前景。但產品主要局限於1500A以下的(de)中小功率領域,在國內也隻有少量廠家生(shēng)產,從技術(shù)角度看主要限於硬(yìng)開(kāi)關變換模式和模擬控製方式,可靠性、EMC及(jí)工藝(yì)結構(gòu)等方麵具有明顯的局限性,同焊接等領域全(quán)麵推廣(guǎng)應用開關式(shì)電源的景況(kuàng)具有較大差距(jù)。
真空鍍膜是指(zhǐ)在高真空的條件下加熱金屬或非(fēi)金屬材料,使其蒸發並凝(níng)結於鍍件(金屬、半導體或絕緣體)表麵而形成薄膜的一種方法。
真空鍍膜這一塊是真空應用領域的重要方(fāng)麵,在真空(kōng)中以真空技術為基礎,把物理方法和化學方法(fǎ)利用起(qǐ)來,通過吸收分子束、離子束、電子束、等離子(zǐ)束、射頻和磁(cí)控等(děng)一係(xì)列高新技術,在科學研究和實際生產中,為薄膜製備提(tí)供一種新工藝,簡單的一點來說,要在真(zhēn)空中利用合金、金屬或(huò)化合物進行蒸發和濺射,並讓被塗覆的物體(有基片、稱基板、基體等等)進行(háng)凝(níng)固並(bìng)沉積,這種方法稱為真空鍍膜,那真空鍍膜電源就可(kě)想(xiǎng)而知,眾所周知,在一些材料的表麵上鍍上一層薄膜,就(jiù)可以使這(zhè)種材料具有多種性能,例如良好的物理和化學性能並且是嶄新的;
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