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主要型號:
型號 | 功率(W) | 工作電壓(V) | 最大峰(fēng)值電流(A) | 外形尺寸 | 冷卻方式 |
MS-10A | 400W | -40~+40 | -10~+10 | 482*175*550 (WHD)[4U] | 風冷 |
MS-20A | 800W | -40~+40 | -20~+20 | ||
MS-30A | 1200W | -40~+40 | -30~+30 |
主要特點:
A 可(kě)選擇三角波、矩形波、正弦波三種波形,波形的最高值和最低值(zhí)可獨立設置。
B輸(shū)出電壓(yā)範圍(wéi):-40V~+40V。
C波形頻率範圍:0.1-50Hz
D三角(jiǎo)波、矩形波(bō)占空比10%~90%
E 可選(xuǎn)擇手(shǒu)動(dòng)控製(zhì)/模擬量接口控製,可選配(pèi)RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈寬調製(zhì)技(jì)術,使用(yòng)進口IGBT或MOSFET作為功率開關器(qì)件,
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可(kě)靠,生產工(gōng)藝嚴格完善(shàn)。
該(gāi)係列產品采用先(xiān)進的DSP控製係統,充分保證鍍膜工藝的重(chóng)複性,
並且具有抑製靶材弧光(guāng)放電及抗短(duǎn)路(lù)功(gōng)能,
具有極(jí)佳的負載匹配能力,既保證(zhèng)了靶麵清洗(xǐ)工藝的穩定性,又提(tí)高了靶麵清洗速度;
主(zhǔ)要參數均(jun1)可大範圍連續調節;
方便維護,可靠性高;
PLC接口和RS485接口擴展功能,方便實現(xiàn)自動化控製。
主要(yào)用途:
MS係列勵磁多波形電源選擇多種電壓波形輸出。通過驅動多弧靶(bǎ)外圍磁場線圈(quān),產生(shēng)周期性可(kě)變磁磁場,使多弧輝光由原來的集中放電(diàn)變為均勻放電,提高(gāo)工件膜層質量

真空鍍膜電源廠家(jiā)告訴你高頻開關電鍍電源應用在金屬表麵處理及小功率範圍內的國內(nèi)市場已(yǐ)經接受,具有廣闊的市場前景。但產品(pǐn)主要局限於1500A以下的中(zhōng)小功率領域,在國(guó)內也(yě)隻有少量廠家生(shēng)產,從技術角度看(kàn)主要限於硬開關變換模(mó)式和模擬控製方式,可靠性、EMC及(jí)工藝結構等方麵具有明顯的局(jú)限性,同焊(hàn)接等領(lǐng)域全(quán)麵推(tuī)廣應用開關式電源的景況具有較大差距。
真空鍍膜是指在高真空的條件下加(jiā)熱金屬或非金屬材料,使其蒸發並凝結於鍍件(金屬、半導體(tǐ)或絕緣體)表麵而形成(chéng)薄膜的一種方法(fǎ)。
真空鍍膜這一塊是真空(kōng)應用領域的重要方麵,在真(zhēn)空中以真空技術為基礎,把物理方法和化學方法利用起來,通過吸收分子束、離子束(shù)、電子束(shù)、等離子束、射頻和磁控等一係(xì)列高新技術,在(zài)科學研究和實際生產中,為薄膜(mó)製備提供一種新工藝,簡單的一點來說,要在真空中利用合金、金屬或化合物進行蒸發和濺射(shè),並讓被塗覆的(de)物體(有基片、稱基板、基(jī)體等等)進行凝固並沉積,這種方法稱為真空鍍膜,那真空鍍(dù)膜(mó)電源就可想而知,眾所周知,在一些(xiē)材料的表麵上鍍上(shàng)一層薄膜,就可以使這種材料具有多(duō)種性能,例如良好的物理和(hé)化學(xué)性能並且是嶄新(xīn)的;
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